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利用等離子設(shè)備技術(shù)通過模版調(diào)制消除復(fù)制污痕
2015.11.23
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聚碳酸脂較差的脫模性會在從模板上脫下復(fù)制片時劃傷和阻斷數(shù)據(jù)點(diǎn)。這會導(dǎo)致非均勻性凹坑/凹槽壁,表現(xiàn)在復(fù)制片上就是瑕疵。這些不同的瑕疵現(xiàn)象分別叫做斑點(diǎn)、水紋、粘連或幻影,更多是基于外觀原因而非盤片的可讀性原因,是我們不希望看到的。當(dāng)使用等離子體技術(shù)去除光刻膠時,用戶發(fā)現(xiàn)可以減少大約70%的這些缺陷,斑點(diǎn)可減少10%,而DVD上的水紋則全部被消除。這是等離子設(shè)備技術(shù)的又一次成功突破。
深圳奧坤鑫等離子設(shè)備-您的制程問題解決專家 
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