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奧坤鑫:淺談等離子清洗機輝光放電原理
2016.05.17
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  【奧坤鑫 OKSUN】等離子清洗/刻蝕機產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設(shè)置兩個電極形成電場,用真空泵實現(xiàn)一定的真空度,隨著氣體愈來愈稀薄,分子間距及分子或離子的自由運動距離也愈來愈長,受電場作用,它們發(fā)生碰撞而形成等離子體。
 
  這些離子的活性很高,其能量足以破壞幾乎所有的化學(xué)鍵,在任何暴露的表面引起化學(xué)反應(yīng),不同氣體的等離子體具有不同的化學(xué)性能,如氧氣的等離子體具有很高的氧化性,能氧化光刻膠反應(yīng)生成氣體,從而達(dá)到清洗的效果。
 
  腐蝕性氣體的等離子體具有很好的各向異性,這樣就能滿足刻蝕的需要。利用等離子處理時會發(fā)出輝光,故稱之為輝光放電處理?!?a href="http://www.ycsyzs.com/">真空等離子設(shè)備
 
  輝光放電時,在放電管兩極電場的作用下,電子和正離子分別向陽極、陰極運動,并堆積在兩極附近形成空間電荷區(qū) 。
 
  因正離子的漂移速度遠(yuǎn)小于電子,故正離子空間電荷區(qū)的電荷密度比電子空間電荷區(qū)大得多,使得整個極間電壓幾乎全部集中在陰極附近的狹窄區(qū)域內(nèi)。這是輝光放電的顯著特征,而且在正常輝光放電時,兩極間電壓不隨電流變化。
 
  所以,我們在實驗或生產(chǎn)過程中,千萬不要將材料接觸于電極板任何部位,否則將會導(dǎo)致整機短路,嚴(yán)重的情況則會燒壞電路板等。正確理解輝光的原理,對我們等離子清洗工藝處理特殊材質(zhì)會有很大的幫助!【卷對張等離子處理設(shè)備

 
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