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奧坤鑫:淺談等離子體的刻蝕技術(shù)
2016.05.24
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  【奧坤鑫 OKSUN】等離子體刻蝕技術(shù)中采用的等離子體是在0.01-1.0真空中輝光放電所形成的非平衡低溫等離子體,這種等離子體的特點(diǎn)是電離度低。
 
  離子通常少于1%而90%以上都是中性粒子,自由電子和氣體分子之間缺乏熱平衡,氣體溫度不過50-250℃,在電場作用下電子、離子、中性態(tài)和激勵(lì)態(tài)分子之間會發(fā)生一系列互作用——彈性或非彈性碰撞。
 
  在電子與氣體分子的彈性碰撞中只有少量電子能量轉(zhuǎn)移給氣體分子而使氣體溫度上升,在非彈性碰撞中電子失去的能量要多得多,它激勵(lì)分子的內(nèi)部運(yùn)動(dòng)如振動(dòng)、轉(zhuǎn)動(dòng)或電子躍遷從而產(chǎn)生了離子、自由基或亞穩(wěn)態(tài)活性體等?!?a href="http://www.ycsyzs.com/">等離子噴槍
 
  等離子體是一種電中性、高能量、全部或部分離子化的氣態(tài)物質(zhì),包含離子、電子、自由基等活性粒子,借助高頻電磁震蕩、射頻或微波、高能射線、電暈放電、激光、高溫等條件產(chǎn)生。
 
  等離子體清洗是通過其所含的活性粒子與污染物分子反應(yīng)使其從固體表面分離來進(jìn)行的,是一種干式清洗技術(shù),能夠替代傳統(tǒng)的濕法清洗技術(shù),能夠在不破壞材料表面特性的前提下,有效清除材料表面的微塵及其它污染物。
 
  【等離子處理機(jī)】等離子體清洗與常規(guī)的化學(xué)清洗相比具有如下優(yōu)勢:
 
  1、等離子體清洗時(shí)不需要加熱處理,在常溫或低溫環(huán)境都具有高效的清洗效果;
 
  2、等離子體避免了濕式化學(xué)清洗中應(yīng)用酸、堿或有機(jī)溶劑等物質(zhì)帶來的腐蝕等危險(xiǎn),安全可靠;
 
  3、等離子體清洗無廢液產(chǎn)生,保護(hù)環(huán)境,最后,等離子體清洗技術(shù)最大的特點(diǎn)是不分處理對象的基材類型,對金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料,如聚丙烯、聚酯、聚酰亞胺、環(huán)氧等都能很好地處理,并可實(shí)現(xiàn)整體和局部以及復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗?!?a href="http://www.ycsyzs.com/">卷對卷等離子處理設(shè)備

 
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