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奧坤鑫:等離子體射流源處理材料表面研究
2016.06.28
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  【等離子Plasma】低溫等離子體的特殊性能可以對金屬、半導體、高分子材料等進行表面改性。材料表面改性的等離子體改性技術已廣泛應用于電子、機械、紡織、生物醫(yī)學工程等領域。
 
  目前,低溫等離子體與材料相互作用的研究已經發(fā)展成為國際上活躍的領域。研究其相互作用的物理化學過程機理,是發(fā)展微電子學、固體表面改性、功能材料等材料領域里的重要課題。低溫等離子體高的活性,在室溫下可以引起多種化學反應或物理摻雜,而基質材料的本體性能不受影響。
 
  等離子體化學氣相沉積(CVD)物理氣相沉積(PVD)方法已廣泛用于制備功能材料,顯示出低溫等離子體對材料表面改性有著較大的優(yōu)勢?!?a href="http://www.ycsyzs.com/">常壓等離子設備
 
  通過低溫等離子體表面處理,材料表面發(fā)生多種的物理,化學變化,或產生刻蝕而粗糙,或形成致密的交聯(lián)層,或引入含氧極性基團,使材料的親水性、粘結性、可染色性、生物相容性及電性能分別得到改善。
 
  低溫等離子體技術在有機材料上的應用有很大的優(yōu)勢,它的優(yōu)點如下:①屬于干式工藝,省能源,無公害,滿足節(jié)能和環(huán)保的需要;②時間短,效率高;③對所處理的材料無嚴格要求,具有普遍適應性;④可處理形狀復雜的材料,材料表面處理的均勻性好;⑤反應環(huán)境溫度低;⑥對材料表面的作用僅涉及幾到幾百納米,材料表面性能改善的同時,基體性能不受影響。【真空等離子設備

 
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