【真空等離子設(shè)備】熱等離子體主要用于以下3方面。
?、俚入x子體冶煉：
用于冶煉用普通方法難于冶煉的材料，例如高熔點的鋯 (Zr)、鈦(Ti)、鉭(Ta)、鈮(Nb)、釩(V)、鎢(W)等金屬；還用于簡化工藝過程，例如直接從ZrCl4、MoS2、Ta2O5和TiCl4中分別獲得Zr、Mo、Ta和Ti。
用等離子體熔化快速固化法可開發(fā)硬的高熔點粉末，如碳化鎢-鈷、Mo-Co、Mo-Ti-Zr-C等粉末。 等離子體冶煉的優(yōu)點是產(chǎn)品成分及微結(jié)構(gòu)的一致性好，可免除容器材料的污染。
②等離子體噴涂：【等離子Plasma】
許多設(shè)備的部件應(yīng)能耐磨、耐腐蝕、抗高溫，為此需要在其表面噴涂一層具有特殊性能的材料。
用等離子體沉積快速固化法可將特種材料粉末噴入熱等離子體中熔化，并噴涂到基體（部件）上，使之迅速冷卻、固化，形成接近網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)的表層，這可大大提高噴涂質(zhì)量。
?、鄣入x子體焊接：
