等離子電漿拋光設備有哪些特點?
等離子電漿拋光技術是一種完全不同傳統(tǒng)方法的新型拋光技術，稱之為等離子液態(tài)電漿拋光技術。此拋光技術是根據(jù)電化學原理與化學反應原理而研發(fā)設計的。是利用電解質(zhì)成分、電解質(zhì)水溶液濃度與溫度、電壓及電流密度對工件表面粗糙度、光澤度、反射率等表面特性的關聯(lián)，而研發(fā)出最適合操作的新型拋光技術。
等離子電漿拋光設備的主要特點:
(1)根據(jù)工件尺寸的不同,可以使工件在幾十秒至2分鐘內(nèi)達到近鏡面的拋光效果,使后續(xù)處理十分方便;
(2)在拋光過程中有效去除沖壓件或其它制造件的邊角毛刺;
(3)拋光過程中使工件表面產(chǎn)生一層鈍化膜,使其保持耐久光亮,增強拋光面的抗腐蝕性能;
(4)拋光均勻程度優(yōu)越,整個工件表面甚至于所有死角部位都可達到一致的近鏡面效果;
(5)拋光過程由電參數(shù)控制,全過程采用進口PLC自動化控制,操作簡單,維護方便;
(6)生產(chǎn)效率高,生產(chǎn)成本低;
(7)拋光過程不產(chǎn)生化學污染
(8)清潔能力:EDTM系統(tǒng)不但定位為快速拋光機構之外,同時亦適合作為各種形狀合金表面的去污、除脂、去氧化層、清潔殘留雜質(zhì)及化學藥物,提供工件表面鍍膜前最優(yōu)質(zhì)的前置處理.
