真空等離子設(shè)備原理就是對材料的表面產(chǎn)生刻蝕的物理作用。真空等離子設(shè)備就是利用等離子體來實現(xiàn)普通清洗方法所無法達到的清洗效果，這種清洗方式不會對清洗對象表面產(chǎn)生任何傷害，由于真空等離子設(shè)備是在真空中進行清洗，因此不會對環(huán)境造成任何的污染。
真空等離子設(shè)備主要由三大結(jié)構(gòu)組成：
控制單元：真空等離子設(shè)備主要由全自動控制、半自動控制、PC控制、液晶觸摸屏控制四種控制單元，而控制單元主要由電源、控制系統(tǒng)、控制按鈕和操作顯示器等部分組成。
真空腔體：真空腔體就是用于清洗對象物的空間，主要有石英腔體和不銹鋼真空腔體。由于其內(nèi)部采用真空滅菌防菌以及等離子清洗法，對于腔體壓力的承受有著一定的要求，所以需要采用材質(zhì)較好的腔體進行配置。
真空泵：真空等離子設(shè)備的主要動力來源就是真空泵，主要作用是將真空腔體中的空氣抽干，從而達到真空的環(huán)境，然后再進行等離子清洗。真空等離子設(shè)備的真空泵主要分為干泵和油泵。干泵主要以電力為動力源，而油泵則使用汽油或柴油為動力源。
