真空等離子設(shè)備主要適用于各種材料的表面改性處理：表面清洗、表面活化、表面刻蝕、表面接枝、表面沉積、表面聚合以及等離子體輔助化學(xué)氣相沉積：
表面改性：真空等離子設(shè)備用于紙張粘合，塑料粘接、金屬錫焊、電鍍前的表面處理。
真空等離子設(shè)備表面活化：生物材料的表面修飾，印刷涂布或粘接前的表面處理，如紡織品的表面處理。
表面刻蝕：真空等離子設(shè)備用于硅的微細(xì)加工，玻璃等太陽(yáng)能領(lǐng)域的表面刻蝕處理，醫(yī)療器皿表面刻蝕處理。
真空等離子設(shè)備表面接枝：材料表面特定基團(tuán)的產(chǎn)生和表面活化的固定。
表面沉積：真空等離子設(shè)備用于疏水性或親水性層的等離子體聚合沉積。
真空等離子設(shè)備廣泛應(yīng)用于金屬、微電子、聚合物、生物功能材料、低溫滅菌及污染治理等多種領(lǐng)域，是企業(yè)、科研院所進(jìn)行等離子體表面處理的理想設(shè)備。
