在電子制造、精密儀器組裝等行業(yè)，點(diǎn)膠工藝是至關(guān)重要的環(huán)節(jié)，良品率的高低直接影響著產(chǎn)品的成本與質(zhì)量。三軸平臺(tái)式等離子清洗機(jī)提升點(diǎn)膠良品率。
在傳統(tǒng)的點(diǎn)膠工藝中，基底表面常常存在各種問題，成為影響良品率的“絆腳石”。基底表面可能附著有油污、灰塵等雜質(zhì)，這些雜質(zhì)會(huì)阻礙膠水與基底的充分接觸，導(dǎo)致膠水無法均勻附著，進(jìn)而出現(xiàn)點(diǎn)膠不飽滿、膠點(diǎn)形狀不規(guī)則等問題，嚴(yán)重影響產(chǎn)品的密封性和穩(wěn)定性。而且，基底表面若存在氧化層，會(huì)使膠水的粘接性能大打折扣，容易出現(xiàn)脫膠現(xiàn)象。
三軸平臺(tái)式等離子清洗機(jī)憑借其獨(dú)特的工作原理，能夠有效解決這些問題。它通過精確控制等離子體的產(chǎn)生和運(yùn)動(dòng)軌跡，對(duì)基底表面進(jìn)行全方位、高精度的清洗。等離子體中的高能粒子能夠迅速轟擊基底表面，將油污、灰塵等雜質(zhì)徹底去除，讓基底表面恢復(fù)潔凈。同時(shí)，它還能去除氧化層，并在表面引入大量極性基團(tuán)，增加表面的粗糙度和表面能，使膠水能夠更好地浸潤(rùn)基底，形成牢固的粘接。
在實(shí)際生產(chǎn)中，使用三軸平臺(tái)式等離子清洗機(jī)處理后，點(diǎn)膠良品率得到了顯著提升。原本因雜質(zhì)和氧化層導(dǎo)致的點(diǎn)膠缺陷大幅減少，點(diǎn)膠飽滿度、膠點(diǎn)形狀等指標(biāo)都得到了明顯改善，脫膠現(xiàn)象也幾乎消失不見。
