在微型聲學(xué)模組的精密制造環(huán)節(jié)，膠痕是藏在縫隙里，哪怕只有幾微米厚，都可能導(dǎo)致振膜粘接不牢、麥克風(fēng)封膠漏音，甚至直接引發(fā)成品破音。而傳統(tǒng)的酒精擦拭、溶劑浸泡，要么清不干凈，要么容易損傷嬌薄的聲學(xué)振膜。
等離子清洗機(jī)恰好精準(zhǔn)命中了這個痛點(diǎn)。它不需要接觸器件，完全在納米級的表面完成作業(yè)：腔體內(nèi)通入的活性氧自由基，能把膠痕里的碳?xì)浞肿又苯臃纸獬啥趸己退魵?，被真空系統(tǒng)徹底抽走，全程不會留下任何液態(tài)殘留。針對聲學(xué)模組里最常見的UV膠痕、壓敏膠殘留，它的去除率能達(dá)到99%以上，連縫隙里的微少殘膠都能清理干凈。
更關(guān)鍵的是，這種處理完全不會破壞聲學(xué)器件的核心性能。等離子體只作用于材料表面幾微米的深度，不會改變振膜、音圈的材質(zhì)特性，處理后的模組在長時間高音測試中，再也不會出現(xiàn)膠痕引發(fā)的脫層、破音問題，麥克風(fēng)的封膠良率直接提升15%以上。
