卷對(duì)卷真空垂直RTR-500
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| 編號(hào) | 內(nèi)容 | 規(guī)格參數(shù) |
|---|---|---|
| 1 | 機(jī)臺(tái)整機(jī)規(guī)格 | 2990（W）*1905（D）*2335（H）mm |
| 2 | 真空室規(guī)格 | 2230（W）*1250（D）*1320（H） |
| 3 | 有效處理區(qū)尺寸 | ≤500寬幅 |
| 4 | 真空電極結(jié)構(gòu) | 垂直8層7層處理區(qū) |
| 5 | 機(jī)臺(tái)總重 | 約3500kg |
| 6 | 額定功率 | 35KW |
| 7 | 機(jī)臺(tái)供電 | AC-380V-50HZ,三相五線 |
| 8 | 抽真空極限壓力 | ≤40mtorr |
| 9 | 抽真空時(shí)間 | ≤240秒 |
| 10 | 破真空時(shí)間 | ≤120秒 |
| 機(jī)臺(tái)用途：用于處理PI聚酰亞胺薄膜、FPC柔性線路板的真空卷對(duì)卷設(shè)備； 設(shè)備特點(diǎn)：主要用于處理100～650mm寬幅之材料，材料在真空室內(nèi)部垂直處理，上下料簡(jiǎn)單，可用于刻蝕工藝。 |
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